*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備,頭孢噻呋注射液研磨分散機(jī) 是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同。
頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機(jī) 將鹽酸頭孢噻呋原料藥加入復(fù)合溶媒中攪拌,充分混勻得混懸液;將助懸劑加入注射劑溶媒中并在80℃~90℃下溶解得溶解液;將溶解液冷卻至室溫后加入到混懸液中,攪拌均勻得混合液;再加入抑菌劑于混合液中,加入剩余的注射級(jí)溶媒定至全量,攪拌混勻;然后過(guò)高速剪切分散機(jī),再過(guò)膠體磨,滅菌,制得長(zhǎng)效鹽酸頭孢噻呋注射液。*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備。
(價(jià)格電議,錢(qián) ,)
頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機(jī) 混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,有效期內(nèi)藥物含量符合要求;混懸微粒細(xì)微均勻,微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90,沉降后不結(jié)塊,輕搖后應(yīng)能迅速分散;混懸劑的粘度應(yīng)適宜,傾倒時(shí)不沾瓶壁;外用混懸劑應(yīng)易于涂布,不易流散;不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標(biāo)簽上應(yīng)注明“用前搖勻”。*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備。
此次北京某客戶來(lái)SGN尋求理想的研磨設(shè)備,他們的項(xiàng)目急需上馬,但苦于國(guó)產(chǎn)膠體磨的效果達(dá)不到(粒徑在15微米以下,原始粒徑50微米)。按照SGN工程師的建議和設(shè)備選型,使用了GMSD2000/4高剪切研磨分散機(jī),進(jìn)行了30分鐘的實(shí)驗(yàn),實(shí)際效果*符合客戶的預(yù)期!
頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機(jī) 的研磨效果
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):
1.膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
2.膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
3. 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
4.循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
(價(jià)格電議,錢(qián) ,)
頭孢噻呋注射液膠體磨,
是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
(價(jià)格電議,錢(qián) ,)
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: *的頭孢噻呋膠體磨 進(jìn)口頭孢噻呋研磨機(jī) 頭孢噻呋研磨設(shè)備 德國(guó)研磨分散設(shè)備 進(jìn)口膠體磨