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高剪切石蠟硅油研磨均質(zhì)機

簡要描述:

GMD2000系列高剪切石蠟硅油研磨均質(zhì)機與同類設(shè)備的對比
①    發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中,高粘物料進入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。RES2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時間,降低了物料發(fā)熱的狀況。

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高剪切石蠟硅油研磨均質(zhì)機

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石蠟硅油乳化,可以生產(chǎn)出高品質(zhì)的脫模劑,產(chǎn)品更加細(xì)膩均勻。大致工藝:先將石蠟加熱至液狀,然后和硅油混合,加入溶劑,利用SGN三級高剪切研磨均質(zhì)機進行均質(zhì)乳化,一遍打出,自然降溫,并可得到高品質(zhì)脫模劑產(chǎn)品。要點:一、乳化過程中的溫度控制;二、研磨均質(zhì)機的剪切力;

                          

結(jié)合客戶所說,如果采用批次研磨均質(zhì)機或者低轉(zhuǎn)速的研磨均質(zhì)機,生產(chǎn)出來的產(chǎn)品不夠均勻、細(xì)膩。所以必須采用高轉(zhuǎn)速的乳化設(shè)備,才能生產(chǎn)出高品質(zhì)的產(chǎn)品。

上海思峻是一家專業(yè)從事研磨、分散、均質(zhì)、乳化設(shè)備研發(fā)與生產(chǎn)的廠家,SGN高剪切研磨均質(zhì)機,采用分體式結(jié)構(gòu),三級乳化工作組,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm;效果好,并且沒有物料殘留。

上海SGNGMD2000系列高剪切研磨均質(zhì)機,小型設(shè)備到大型設(shè)備,采用線性放大,效果保證*,線速度均為44m/s,產(chǎn)量可從幾升到幾噸可選。

SGN高剪切研磨均質(zhì)機,采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可以24小時連續(xù)生產(chǎn)。

                    

GMD2000系列高剪切石蠟硅油研磨均質(zhì)機與同類設(shè)備的對比

①    發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中,高粘物料進入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。RES2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時間,降低了物料發(fā)熱的狀況。

②    多層多向剪切分散。同類設(shè)備定、轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級多層的結(jié)構(gòu)只是單純的重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象。GMD2000系列定、轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切的概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向的剪切分散,杜絕短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更加*。
 


GMD2000系列高剪切研磨均質(zhì)機型號表

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

Rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

GMD2000/4

300-1,000

14,000

44

2.2

DN25

DN15

GMD2000/5

1,000-1,500

10,500

44

7.5

DN40

DN32

GMD2000/10

3,000

7,300

44

15

DN50

DN50

GMD2000/20

8,000

4,900

44

37

DN80

DN65

GMD2000/30

20,000

2,850

44

75

DN150

DN125

GMD2000/50

40,000

2,000

44

160

DN200

DN150

 

高剪切石蠟硅油研磨均質(zhì)機信息來源于www.sgnprocess。。com

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 高剪切石蠟硅油研磨均質(zhì)機 納米研磨均質(zhì)機 三級研磨均質(zhì)機 管線式均質(zhì)機 高剪切超高速均質(zhì)研磨機

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